輝光放電質譜檢測機構，GDMS輝光放電質譜測試

輝光放電質譜簡稱GDMS，是利用輝光放電源作為離子源與質譜儀聯接進行質譜測定的一種分析方法。

輝光放電質譜檢測項目

表面化學分析、輝光放電質譜、高純物質純度測試、雜質元素測試、鍍層材料純度測試、元素深度測試、常規檢測、第三方檢測、現場檢測等。（具體以客戶實際情況為準）

輝光放電質譜檢測標準（部分）

1、 T/CSTM 00445-2021 輝光放電質譜儀校準規范

2、 ISO/TS 15338:2020 表面化學分析 - 輝光放電質譜 - 操作程序

3、 AS 3685:1998 輝光放電質譜法（GD-MS）的建議程序和原則

4、 GB/T 33236-2016 多晶硅 痕量元素化學分析 輝光放電質譜法

5、 PD ISO/TS 15338:2020 表面化學分析 輝光放電質譜分析 運營流程

6、 DB35/T 1146-2011 硅材料中雜質元素含量測定 輝光放電質譜法

7、 BS DD ISO/TS 15338:2009 表面化學分析.輝光放電質譜法(GD-MS).用法介紹

輝光放電質譜的用途

輝光放電質譜(GDMS)是一種先進的分析技術，被廣泛應用于材料科學、地質學、環境科學等領域。將輝光放電離子源和高分辨率質譜儀結合，主要應用于高純度無機固體材料的成分分析，可以一次掃描即可測量從鋰（Li）到鈾（U）之間所有元素成分。

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